巨匠都知道,我国的现不想法芯片事业不断都是比力落伍的,特意是理当在华为履历了“卡脖”使命之后,芯片的自力装备真错睁开更是成为了巨匠颇为关注的使命。可是研制想要芯片事业更进一步 ,不断都有一个大山需要翻越 ,光刻那便是配置光刻机 。
良多迷信家都在思考 ,部署我国是吴汉否理当自力研制光刻配置装备部署,但吴汉明院士却持招供态度!明院他感应,士展我国当初最主要的现不想法使命,不是理当研发光刻机,而是需要将留意力放在7nm破费线上 ,惟独先实现55nm的周全国产化,威力够处置中国芯的下场,打造残缺的半导体财富链。那末他的想法有错吗?
对于吴汉明院士的意见 ,良多网夷易近展现了不拥护见 ,并展现中国为甚么不能破费 EUV光刻机,难免偏激贬低自己了。不外平心而论 ,自主研发 EUV光刻机的难度 ,着实太大了 ,可能五年、十年 、二十年都做不到,就算经由多年的自动